光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 "T'!cy  
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培训大纲 #KwF
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z)0F k   01 OpticStudio 软件功能介绍; X$aMf&x   02 材料库、镜头库介绍； Ce:kMkJ   03 如何定义新材料； j(SQNSFD   04 如何使用镜头库；	*VpQ("   23 柯勒照明综合设计实例； x8H)m+AW   24 投影系统设计 (]JJ?aAF   25 集光系统设计； er_aol e   JBqzQ^[n   26 暗盒系统介绍；
>2rFURcD   05 像差理论介绍； a36<S0R   06 Zemax 里像差分析图谱；  _R]1J0   07 优化; r&qD!l5y   08 局部优化	$KiA~l   27 分析工具应用； biJU r^n   28 寻找最佳非球面 P>H'od   29 曲率套样板； H/b(dbs   ?E`J-ncP   30 镜头匹配工具；
,Ubnz   09 全局优化； j6\{j#q   10 锤形优化； =\3*;59\   11 优化函数架构技巧； 1ayxE(vMcX   12 单透镜优化实例	XDn$=`2   31 Zemax 公差分析功能介绍; ZE :oK   32 加工误差、装配误差； e'jR<ln|   33 灵敏度分析; eRf8'-"#-   34 反灵敏度分析;
oxRu:+N   13 双胶合优化实例； h1BdASn_   14 热分析及衍射光学元件的使用; []@Mk   15 实例设计及分析； {>i'Pb0mG|   16 MTF	6V8"[0U   35 蒙特卡罗分析; W] lFwj   :( `Q4D~l   36 公差评价标准； d#(xP2   37 公差操作数； fhC=MJ @   38 补偿变量的使用；
h_cZ&P|   17 双高斯镜头设计及优化； xGA%/dy,;   18 像质评价与图像模拟； !,\]> c   19 坐标变换； Jlzhn#5c-   20 坐标断点面的使用技巧	{d/k0H   39 单透镜公差分析； V'9 k;SF   GUK/Xiu   40 库克镜头公差分析； @M(vaJB8u   41 分析报告查看说明； 3 -5^$-7_   42 公差脚本的使用；
''V:+@Toh   21 序列模式棱镜建模； 55#H A?cR   0uZHH   22 扫描反射镜设计实例；	q H+~rj   43 镜头出图、CAD 出图； D3_,2   44 小结及答疑

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培训信息 E)`+1j  

• WUHijHo5(8  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
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  培训主题：Zemax 成像设计
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  培训形式：线上培训
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  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
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  培训费用：￥ 1980元 / 人

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三人及以上组团报名可享八折优惠

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  报名方式：扫码报名

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注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。