光学设计必学！Zemax 成像设计线上培训课程 招生中

Zemax 成像设计线上培训课程 招生中 1 
&G0;  
q
5 eyle6  
培训大纲 V{!fag  

wq yw#)S   01 OpticStudio 软件功能介绍; LX<arHz   02 材料库、镜头库介绍； [5[}2B_t   03 如何定义新材料； m]H[$Q   04 如何使用镜头库；	L8OW@)|   23 柯勒照明综合设计实例； y?=W   24 投影系统设计 $cl[Qcw   25 集光系统设计； 6P,vGmR   j,<3[   26 暗盒系统介绍；
0$=Uhi   05 像差理论介绍； #'`!*VI   06 Zemax 里像差分析图谱； 2n]UNC   07 优化; _#[~?g`   08 局部优化	5\\#kjjx   27 分析工具应用； ggluQGA   28 寻找最佳非球面 "53'FRj_\   29 曲率套样板； t "y[   :~uvxiF   30 镜头匹配工具；
(<M^C>pldf   09 全局优化； 3[q&%Z.   10 锤形优化； Q?"o .T';   11 优化函数架构技巧； )"( ojh   12 单透镜优化实例	'8%pEl^   31 Zemax 公差分析功能介绍; ku2gFO   32 加工误差、装配误差； q%H`/~AYM   33 灵敏度分析; Kmy'z   34 反灵敏度分析;
@|I:A   13 双胶合优化实例； yH`4sd   14 热分析及衍射光学元件的使用; T,'{0q   15 实例设计及分析； l>(w]   16 MTF	D.7,xgH   35 蒙特卡罗分析; {?2jvv   K&L9Ue   36 公差评价标准； (tZ#EL0   37 公差操作数； \R!.VL3Tx$   38 补偿变量的使用；
woSO4e/   17 双高斯镜头设计及优化； v?AQ&'Fk   18 像质评价与图像模拟； iJ8 5okv'   19 坐标变换； ';H"Ye:D=7   20 坐标断点面的使用技巧	oAnNdo   39 单透镜公差分析； L#   ,(1n(FZ   40 库克镜头公差分析； 0<g;g%    41 分析报告查看说明； $x5,Oen   42 公差脚本的使用；
4Sj;38F .1   21 序列模式棱镜建模； Sf_q;Ws   ]YQ!i@Y   22 扫描反射镜设计实例；	#9R[%R7Nz   43 镜头出图、CAD 出图； ,s=jtK   44 小结及答疑

<V
> [H7  
jCJbmEfo9@  
培训信息 ;f]p`!] 3  

• FWi c/7  
  主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• X jJV  
  培训主题：Zemax 成像设计
• ^[UWG^d  
  培训形式：线上培训
• M-#
  OPj*  
  培训时间：2022年3月9~10日（9：00-17：00）
• \BRxdK'  
  培训费用：￥ 1980元 / 人

|3Fo4K%+  
三人及以上组团报名可享八折优惠

• $A4rdhvd  
  报名方式：扫码报名

【备注】 7g* "AEk  
注：如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。