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内容简介： f-5vE9G3y7
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g||rq 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； [YT"UVI
LC5NB{b\%> 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 DU g
u</21fz' 结构设计 ;4nz'9+ 1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 YQ>M&lnQ<
%g3@m5& GXC :~$N 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 qyMR0ai-
kV7c\|N9 /nEh,<Y) 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 z JWh
c ?mCt0Cg 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 brN:Ypf-e sygAEL;. 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 \AOVdnM:
Qcu1&t\ C < J=9,tv< 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 >JVZ@
PV
H ^{8 r(1,  T78`~-D4<
fZ6lnZ $b;9oST MyZ@I7Fb, 导出加工数据 \H+/D &M
= >)S\Dfi 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) U/E M(y
z.{T`Pn 5haJPWG|' 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 ;5 cg<~t
\R45#.
P6X D0,U2d 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 IbQ3* %-?HC jT  g W'aK>*c
> Zo_- , 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 PgAC3%M6 Cul^b_UmP# 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 cYyv
iR59# $O,$KAC 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 #/t^?$8\\ #(-V^ T zghUwW |K
导出加工数据列表
q%,q"WU
Qjh5m5e JnH>L|G{;% r6&f I"Yg 导入加工数据 }R* [7V9"
x/47e8/ 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI "NSm2RU3
F>E'/r* M >Yx_)<U 2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) .r+ u pY
!]4' f/ a c6Lv}w_ 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) Z8+{ - a+ZP]3@
7 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 %CJgJ,pk>
=Y>_b
2 ~{'. 9  #p}I 84Q 5mdn77F_ 
+{N LziO 6) 导入完成，观察3D视图
M]:4X_
azKbGS/X  (D F{l?4x- '0 D2e
QQ：2987619807
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