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内容简介: +oa]v1/W _nt%&f 1.在VirtualLab中如何进行结构设计; 3 ren1 +}!eAMQ 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 VI4d/2e i8]r}a 结构设计 ~tWBCq 6 1) 点击 ,打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 POf \l l d@^$ dK-G%5)r 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布,默认为振幅视图. 点击 ,将默认的振幅视图转换为相位视图,点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 aVlHY E pfG:PrZ {+ m)*3~w 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 .T7ciD "v06Fj>q 目标(Target)标签,可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 K{c^.&6D )xeVoAg 光学设置(Optical Setup)标签,在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate),并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium),同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长(Wavelength)。 #KwFrlZ kF5}S8B n\ZFPXP 光学界面参数(Interface Parameters)标签,在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None),以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面,并选择像素化的高度轮廓(最临近点插值)[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值
Qj~0vx! 9f
"*Oj +RM3EvglDQ 4) 完成结构设计,在新的LPD中设计好的结构已经包含在名为“Generated Structure Design Component”的元件中 X*sF-T$. qy!G& al2v1.Y} )\e_I\- 导出加工数据 =F`h2 A;a 3+Q6<MS
q 1) 在LPD中双击生成的元件,可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component,简称DIC)的形式保存的,而高度轮廓以取样光学界面(Sampled interface)的形式保存,点击编辑(Edit) {|fA{ Q_R 1Dbe0u c}Qc2D3* 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口,在结构(Structure)标签上,选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值,并进行3D预览 *?uF&( 0 F"q3p4-<> /xmd]XM=_ 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中,点击鼠标右键,选择精度(Accuracy),将界面取样精度设置为5,提高取样光学界面的显示精度 1osI~oNZ ?;$g, 2n @U&|38 bx@CzXre; i55']7+0 4) 进入界面高度离散化(Height Discontinuities)标签,将离散高度阶数(Discrete Height Levels)设置为8,通过工具(Tools)中的导出(Export)生成可用于光学界面加工的数据 oyHjdPdY# m'S-h'a Y3thW@mD05 A4#m&o |