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内容简介： %q r,Ssa/
A'}!'1 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； ^^k9Acd~p
u1kCvi#N 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 0 GFho $f
RwK6u-u#9 结构设计 ,;MUX CC' 1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 _"H\,7E
?~sNu k ADxje%!1O 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 m0 W3pf
_8SB+s* 7C Sn79E 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 }#~E-N3x
!:xE
X~ 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 uZ f
6W<a p4\sKF8- 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 s 7%i uP
%Y /;jC Y [T'[7 Z 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 J 7dHD(R8 sm?b,T/  aox@- jyr
#u" @q< ) 1DU
l<&4 37IHn6r\ 导出加工数据 (-;(wC EE
5D-as9k* 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) i t>Bf;
M a{@b$> [".94(qs 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 }U9dzU14
f `b6E J Bn.R,B0PL 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 EHl~y=9 WcXNc`x  _h,X3P
X mb##: 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 lR
F5/ ]f`UflMO8 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 iYdg1 a~!7A
ZT-O 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 !K= $Q Uq -J 'k ed C= K{;.
导出加工数据列表 )-iUUak
S,'ekWVD " :[;}f;
A;^{%S 导入加工数据 o5+7Lt]
%Zfh6Bl\X 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI t82*rC IB{
u ^2/:L 1?"Zr d 2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) R +U*]5~R
ojJu a c4 OB+ cE4$ 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) .34 5%j l Ny<E!0 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 z>=;Xe8P8n
U`{ M1@$ *uxKI:rB:  \f]w'qiW5 zQGj,EAM}  ZXbq5p _ 6) 导入完成，观察3D视图 hO$29_^"
6@d/k.3p  >Fe=PRs nxm*.&#p?
QQ：2987619807
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