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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 L\d"|87lX  
    *nUD6(@g  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ql, k5.l  
    w?^qAj(*d  
    N)Fy#6  
    场景  QDCu  
    -r%4,4  
     JWhi*je  
    $j61IL3+  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 d?dZ=]~C  
    L{y%\:]  
    系统构建块     [DS.@97n  
    w"Gci~]bXU  
     <SeK3@Gi  
    L{H` t{ A  
    组件求解器 HGqT"N Jr  
    2pR+2p`  
    -#Xo^-&  
    &DoYz[q  
    oujg( ^E  
    QcBuUFf!c  
    系统构建块 H_gY)m  
    m$^Wyk}  
     _ ;baZ-  
    kSJWXNC  
    总结 +"1@ 6,M  
    l-` M 9#  
    $#R@x.=  
     + ]I7]  
    几何光学仿真 eXo7_#  
    通过光线追迹 cMxuG'{=.  
     'qR)f\em  
    结果：光线追迹 pVgzUu7  
    m2wGg/F5  
     cXM4+pa=%  
    ;S Re`  
    快速物理光学仿真 $ ?ayE  
    通过场追迹 o+{]&V->gN  
     * E$&  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 | Q0Wv8/  
    Ph@hk0dgr/  
     {4B{~Qe;  
    F@ Sw  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 NDsF<2A4  
    \0gU)tVZ  
     klkshlk d  
    |~)!8N.{  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 AQAZ+g(IK  
    '3B"@^]  
    {O24:'K&  
    `h%(ZG ~  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 v6uXik  
    .|ZO2MCd  
     ~kHWh8\b:  
    D(bQFRBY6"  
    总结 Ife/:v  
    {'O,G$Ldkr  
    mdzUL d5J  
    |HT5G=dw  
    文件信息 .W;,~.l  
    )96tBA%u  
     c, IAz  
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    QQ：2987619807 -jXO9Q  
     
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