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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 rV#ch(  
    ON(kt3.h  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ;e*!S}C,  
    q_58;Bv  
    q/,O\,  
    场景 Q![@c   
    ~]2K ^bh8&  
     sXPe/fWo  
    26h21Z16q  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 F)eelPZ+,  
    4kx N<]  
    系统构建块     ;i+jJ4  
    &^jXEz;  
     L!xi  
    KZf+MSq? B  
    组件求解器 bk[!8- b/a  
    ;4\;mmLVk  
    :V||c5B+  
    6'f;-2  
    j3Y['xDv  
    K}Qa~_  
    系统构建块 y:uE3Apm  
    tCt#%7J;a  
     &oMh]Z*:  
    5{,<j\#L  
    总结 sYA1\YIii  
    ~P-mC@C  
    'I;zJ`Trd  
    pQB."[n  
    几何光学仿真 -Q Nh  
    通过光线追迹 `R^gU]Z,  
     VIf.q)_k  
    结果：光线追迹 ?S=mybp  
    X:{!n({r=  
     f$QNg0v  
    _+MJ%'>S  
    快速物理光学仿真 vl)l'  
    通过场追迹 8&dF  
     T)_hpt.  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 J'r^/  
    $*m-R*kt  
     _yR^*}xJb  
    "m>81-0  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 COlaD"Y  
    Xch~ 1K  
     veECfR;  
    x,' !gT:j  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 dj%!I:Q>u  
    LDa1X2N  
    >yDZw!C  
    qqU 64E  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 `Q,H|hp;k;  
    d#wVLmKZ  
     ],].zlN  
    _o~ nr]zx  
    总结 Dvln/SBk  
    *X}`PF   
    ?Mfw]z"\C)  
    ySI !d|_  
    文件信息 7 X4LJf  
    ddR>7d}N  
     m#p'iU*va,  
     9gZ$   
     d'sZxU  
    QQ：2987619807 akQ7K  
     
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