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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 n'%*vdHK m  
    !Bu<6  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 &$vDC M4  
    R1J"QU  
    z\fD}`^8  
    场景 CF =#?+x  
    B)ynF?"  
     M(?|$$   
    >N+e c_D^  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ^>[DG]g  
    `=%[  
    系统构建块     * C's7O{O  
    *"j_3vAx  
     [- vd]ob  
    v%86JUlK.  
    组件求解器 1pO ;aG1O  
    lKH"PH7*_w  
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    bKG:_mWe w  
    QF[9Zn  
    w&:h^u  
    系统构建块 iT9cw`A^%  
    ~iF*+\  
     gh i!4  
    C2ToT\^  
    总结 >JCSOI  
    ,MOB+i(3*u  
    JL;H:`x  
    >,hJ5-9  
    几何光学仿真 R!}B^DVt  
    通过光线追迹 YfF&: "-NU  
     gEU)UIJ  
    结果：光线追迹 |]r# IpVf  
    *M- .Vor?R  
     W+Gu\=s%O  
    ?uQ|?rk  
    快速物理光学仿真 bis/Nfr]  
    通过场追迹 Qpf BM  
     N]+x@M @^3  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 f&^Ea-c  
    ~3f#cEP>d}  
     alHwN^GhP  
    _mXq]r0  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 EB@!?=0x  
    G.B^C)guu  
     R>pa? tQgK  
    Mt@K01MI%  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 fp12-Hk ~  
     s.GTY@t  
    w[4SuD  
    O aF+Z@s  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 K"-N:OV  
    iF61J% 3-  
     Of([z!'Gc  
    {} vl^b  
    总结 f()^^+  
     4uU(t  
    *xL#1  
    K7e<hdP_#  
    文件信息 :*c@6;2@  
    u$<FKp;I  
     vc^PXjX  
    R+!2 j  
     :p8JO:g9  
    QQ：2987619807 <!DOCvd  
     
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