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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 ~99Ta]U  
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ,SS@]9A &  
    naM4X@jl  
    sj Yg  
    场景 4 ILCvM  
    RG#  
    J'Gn M?M  
    ]-["sw  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ; #e-pkV  
    (9@6M 8A  
    系统构建块
    3fn6W)v?  
    *#dXW\8qu  
    HI)ks~E/  
    u!X[xe;  
    组件求解器 R&=Y7MfZ  
    O. @_2  
    .kvuI6H  
    6^}GXfJAc  
    //f[%j*>  
    F(}d|z@@  
    系统构建块 w,9$*=k  
    p*n$iroy_{  
    ?cowey\m .  
    }=;N3Q" #y  
    总结 % UY=VE\F  
    Y Q3%vH5#y  
    Y#3m|b45n  
    ); 7csh%  
    几何光学仿真 FHqa|4Ie  
    通过光线追迹 q1`uS^3`  
    +#,t  
    结果:光线追迹 ,k+jx53XV  
    Oa CkU  
    2mVH*\D  
    I)O%D3wfMW  
    快速物理光学仿真 IcI y  
    通过场追迹 z35n3q  
    }DY^a'wJ-  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 j+PW9>Uh  
    24>{T5E  
    ?^5W.`Y2i  
    Y -7x**I  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 N{L]H _=  
    %[&cy'  
    nS]/=xP{  
    Uw<Lt"ls.  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 >LwAG:Ud  
    M'R^?Jjb  
    hDjsGB|Fz  
    g}L2\i688  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 %U-KQI0  
    ]l}8  
    SDcD(G  
    %pe7[/  
    总结 qA Jgz7=c  
    g6;O)b  
    t.485L %  
    ,t(y~Z wJ  
    文件信息 h&;\   
    H2p1gb#  
    ([`-*Hy  
    UIIunA9  
    Hg*6I%D[So  
    QQ:2987619807 HaJD2wvr  
     
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