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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 :a nUr<  
    g]N!_Ib/!  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 $5s?m\!jZz  
    9<G-uF  
    gb( a`  
    #-Ehg4W  
    建模任务 Yfs60f  
    |ILj}4ZA7  
    -Wb/3 X  
    概观 DO8@/W( `  
    ezgP\ct  
    ~\6Kq`Y  
    光线追迹仿真 +MvcW.W~  
    d[6[3B  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 CcG{+-= H)  
    Uf 1i "VY  
    •点击Go！ iQ~;to;Y  
    •获得3D光线追迹结果。 ~bf-uHx  
    iYEhrb  
     B_aLqB]U  
    OB.TAoH:  
    光线追迹仿真 4w<U%57  
    /YKg.DA|  
    q5p!Ty"  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 B>AmH%f/  
    •单击Go！ WA \ P`'lg  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     jO&sS?  
    iOYC1QFi?  
    &"p7X>bd  
    x_GD  
    场追迹仿真 ?>92OuG%W?  
    5 <X.1 T1  
    >TK:&V  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 +fBbW::R^  
    •单击Go！     lZCTthr\  
    *9Ej fs7L  
    k?zw4S  
    r#M0X^4A  
    场追迹结果（摄像机探测器） [K1RP.  
     wJ,l"bnq  
    VEj-%"\   
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 4^/MDM@  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 G~b/!clN  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 %{?EfULg  
    G6]W'Kk  
    (,*e\o  
     efW<  
    场追迹结果（电磁场探测器） f*)8bZDD  
    2uujA* ^  
    #e|G!'wdj  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     'M8wjU  
    2_k2t ?   
    =BW;n]ls  
    文件信息 G0 *>S`:4  
    {"k}C2K'r  
     olda't  
    " iAwD8-  
     ,Q:Ylc8  
    QQ：2987619807 *|n-Hr  
     
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