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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 M8lw; (  
    Pjq'c+4.yL  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 W,8Uu1X =  
    N-N]BS6  
    cvw17j  
    }^I36$\  
    建模任务 -s HX   
    %nJo:/  
    UR'v;V&Cb\  
    概观 ")ys!V9  
    )h ,v(Rxa  
    6b*xhu\  
    光线追迹仿真 5_A*I C]  
    O<fy^[r:`  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 CeU=A9  
    b~ )@e9  
    •点击Go！ j hRr!  
    •获得3D光线追迹结果。 ['>ZC3?"h  
    ^coCsV^CW"  
     NJJ=ch  
    zw'%n+5m  
    光线追迹仿真 = y^5PjN  
    3LyNi$`f  
    Z|KDi `S  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 &qY]W=9uK  
    •单击Go！ 7r:&%?2:g  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     RKzO$T  
    z}}P+P/  
    {KDN|o+%  
    I[rR-4.F]  
    场追迹仿真 z\FBN=54z  
    _KloX{a  
    Qu<6X@+5  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 AP z"k?D0  
    •单击Go！     #Fo#f<b p  
    E el*P M  
    +*W lj8  
    ;4dFL\KU  
    场追迹结果（摄像机探测器） kE6/d,  
     erv94acq  
    VJ h]j (  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 pC,Z=+:  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 k|>yFc  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 4cy,'B  
    rYV]<[?~7  
    )Vy0V=  
     {o^tSEN!-  
    场追迹结果（电磁场探测器） 4n.JRR&;  
    o6w8Y/VPu  
    6n]jx:CZ,  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     D 9;pjY  
    PI$i_3N  
    3 ;"[WOv  
    文件信息 izcjI.3e,  
    '>"blfix8  
     % u VTf  
    J:'_S `J  
     bLWY Tj  
    QQ：2987619807 #: [F=2@,A  
     
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