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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 V[baGNe  
    h$rk]UM/Q  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 x|q|> dPB  
    i+eDBg6  
    /dq(Z"O_  
    qASV\ <n  
    建模任务 GP;UuQz  
    Xwt}WSdF`k  
     T6N~L~J  
    概观 XD$;K$_7  
    +EE(d/ f  
    $V2.@ X  
    光线追迹仿真 i.G"21M  
    u$V8fus0  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 56T{JTo  
     @bO/5"X,  
    •点击Go！ l~*D jr~  
    •获得3D光线追迹结果。 -VO* P  
    %:/?eZ  
     ]aTF0 R  
    )ME'qA3K  
    光线追迹仿真 u:GDM   
    iK3gw<g  
     WDq~mi  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 YH/3N(],  
    •单击Go！ 8bI;xjK^Q  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     +w'He9n  
    )2mvW1M=7;  
    drK &  
    Z"Byv.yqb  
    场追迹仿真 U t'r^  
    KW-g $Ma  
    L|N[.V9  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 '7(oCab"_  
    •单击Go！     2JX@#vQ4  
    /XZ\Yy=  
    2(iv+<t  
    >{@:p`*  
    场追迹结果（摄像机探测器） kcyT#'=j  
     -G@:uxB  
    .:V4>  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 V/W{d[86G  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 o=ULo &9  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 [2Ot=t6]  
    :]+p#l  
    gq[`g=x  
     /Ym!%11`  
    场追迹结果（电磁场探测器） .Mu]uQUF  
    fZF.eRP '  
    TU}. /b@F  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     1./iF>*A  
    Q3|I.I e  
    p4M7BK:nf  
    文件信息 Z|IFT1K  
    @1^:V-=  
     s ad[(|  
    4oywP^I  
     ZKco  
    QQ：2987619807 V H2/  
     
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