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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 E>3fk  
    yp:_W@  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 0qrsf!  
    fUg I*V  
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    xl~%hwBd  
    建模任务 ;n,@[v  
    aj<=]=hr  
    \#; -C<[b  
    概观 "' hc)58y  
    ) b vZ~t+^  
    .<C}/Cl  
    光线追迹仿真 Q}MS $[y  
    DdL0MGwX  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ?E?dg#yk  
    Qpc+1{BQ  
    •点击Go！ G.} 3hd0  
    •获得3D光线追迹结果。 U{2UKD@PM  
    -S7rOq2Li  
     zi*2>5g  
    v"6ij k&(  
    光线追迹仿真 . 787+J?  
    [fU2$(mT+  
    FV&&  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 /v1Rn*VF!  
    •单击Go！ ;O2r+n  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     e'c~;Z\A  
    FasA f( 3  
    uwl;(zwh_  
    12Hy.l  
    场追迹仿真 U'st\Dt  
    $#dPM*E  
    O0{M3-  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 |"Js iT  
    •单击Go！     ~$N%UQn?b#  
    D 5qCn^R  
    c D+IMlT  
    1CiK&fQ'  
    场追迹结果（摄像机探测器） "mnWqRpX  
     m>gok0{pm  
    Syn>;FX  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 05\A7.iy  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 p AzPi  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 r`|/qP:T[  
    ;K:)R_H  
    yFT)R hN  
     {ZH9W  
    场追迹结果（电磁场探测器） )POuH*j  
    k=<,A'y-/  
    0)V<)"i  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     J(0.eD91v  
    T1p A <6  
    bmEo5f~C!  
    文件信息 e`#c[lbAAM  
    j5ZeYcQ-  
     |\ j'Z0  
    SLL%XF~/Sb  
     H'E >QT  
    QQ：2987619807 > _1*/o JO  
     
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