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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 XB.xIApmy  
    <?&Y_  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 L/Ytkag  
    RnaxRnXVR  
    O?=YY@j  
    VK]cZ%)  
    建模任务 [XKudw%  
    N*w6D:  
    i!a. 6Gq  
    概观 I,lX;~xb  
    lM |}K-2  
    E-`3}"{  
    光线追迹仿真 }mYxI^n  
    /=(PMoZu  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 3!u`PIQv  
    #>ob1b|  
    •点击Go！ gr^T L1(  
    •获得3D光线追迹结果。 =`KA@~XH4  
    1s_N!a  
     o}p^q:T*  
     Iysp)  
    光线追迹仿真 PNs*+/-S  
    PrKH{nyJk  
    rk-GQ#SKU  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 h.*v0cq:  
    •单击Go！ bP Q=88*  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     CUN1.i<pk8  
    RG.wu6Av  
    }0Ie Kpu5  
    o/6VOX  
    场追迹仿真 G1fC'6$3  
    4nrn Npf`b  
    _CMNmmp`e  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 )|=4H>?%  
    •单击Go！     v`@NwH<r  
    FP'-=zgc  
    PX*}.L *x  
    Ew JNpecX  
    场追迹结果（摄像机探测器） MD^,"!A  
     x5|^p=  
    k<|}&<h  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 q B IekQT  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 zI0d  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 #jh5%@  
    W7. +  
    TlowEh8r  
     84!Hd.H  
    场追迹结果（电磁场探测器） (:I]v_qEYS  
    6?Kl L [~  
    Gr4v&Mz:  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     *4e?y  
    SK#&%Yk  
    O}w%$ mq  
    文件信息 e=nvm'[h  
    3FtL<7B '.  
     |dz"uIrT  
    g60k R7;\  
     ~8yh,U  
    QQ：2987619807 m8;w7S7,j~  
     
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