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摘要 %3$*K\Ai eVM/uDD 高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 //4Xq8y u3o#{~E/#  FSRj4e1y1 gB4U*D0[e~ 建模任务 4NdN< #Lr NmSo4Dg`U  j8sH#b7Z 概观 Rv/Bh< t 59Gk3frk(  <fs2fTUeqF 光线追迹仿真 Bk+{RN(w @_LN3zP •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 2~ t[RY M_%B|S
{
•点击Go！ % =BMZRn
•获得3D光线追迹结果。 Ogp"u b 8
<~)kwq'
 0p@k({ ] < DzheoA-+L' 光线追迹仿真 +Lnsr\BA k{<,\J RTFZPq84
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 T]?n)L,2
•单击Go！ o,P.& m{?
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 W
mm4hkf 5j-]EJb  > B>CB3 U CQpCS_M 场追迹仿真 -<_Ww\%8M IO/4.m-aN# T t>8?
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 %G?;!Lz
•单击Go！ &< !U fa& JXj8Br?Z@  ymNn kFv 1=]kWp`i 场追迹结果（摄像机探测器） 36n>jS&
.&x}NYX4 )nd\7|5#
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 X7g3
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Rtjqx6-B;
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ZKdeB3D
2>l,no39t+
 "rAY.E]
%xQ.7~ 场追迹结果（电磁场探测器） _A~4NW{U7 5~yNqC 8j4z{+'TQ
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 @+WQ ^ L.=w?%:H=
 )$Z=t-q
文件信息 q SejLh6
E~kG2x{a
 8#&q$kE 3.)b4T
nJbbzQ,e QQ：2987619807 l)-Mq@V
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