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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 ;w7s>(ITZ  
    kBU`Q{.  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 (u4'*[o\t  
    dsU'UG7L  
    :85QwN]\  
    8 =oUE$9  
    建模任务 "+M0lGTB  
    B[IWgvB(e  
    :b0|v`FU  
    概观 <Nk:C1Op}  
    p\P)    
    d#HlO}  
    光线追迹仿真 G<-<>)zO!  
    X[!S7[d-y  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 GG`j9"t4  
    Jcy+(7lE)  
    •点击Go！ |>RNIJ]  
    •获得3D光线追迹结果。 4,0 8`5{  
    1N[9\Yi  
     }_BNi;H  
    u9m ~1\R*  
    光线追迹仿真 2bOl`{x  
    a!EW[|[Q  
    ~.>8ww  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 yl&s!I  
    •单击Go！ j#Qnu0D  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ;|`< B7xf  
    D\Y,2!I  
    Ih N^*P:Fo  
    :uJHFF xg  
    场追迹仿真 DheQcM  
    4jc?9(y%  
    FTr'I82m(  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 g^}C/~b[  
    •单击Go！      |e<$  
    b0/YX@  
    jK".iqx2L  
    (*b<IGi;  
    场追迹结果（摄像机探测器） xYZ,.  
     s(?%A  
    (xE |T f  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 `v-O 4Pk  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 d}%-vm} 0  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 5KfrkZ  
    FJ^\K+;  
    K$:+]fJK  
     `kE7PXqa  
    场追迹结果（电磁场探测器） KnKf8c  
    F2\&rC4v  
    :T|9;2  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     6{{<+ o  
    Ex Q\qp3  
    oHr0;4Lg6  
    文件信息 r \[|'hA  
    D.-G!0!  
     =j{tFxJ  
    `*elzW  
     A*vuSQt(  
    QQ：2987619807 c%WO#}r|  
     
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