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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 xJCpWU3wM  
    AK HH{_  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 43XuQg4  
    ZtVa*xl  
    `Z-`-IL  
     s25012  
    建模任务 %L3]l  
    }JD(e}8$!  
    ?}[keSEh>  
    概观 ?F/3]lsggT  
    |k+^D:  
    N"TD$NrK\  
    光线追迹仿真 00i9yC8@6  
    ,tZwXP{  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 PBmt.yF  
    mX89^  
    •点击Go！ `c(@WK4  
    •获得3D光线追迹结果。 (P?9Jct  
    n[@Ur2&)  
     {/ta1&xyG  
    %[J( ,rm  
    光线追迹仿真 y.zQ `  
    Ty=}A MMyE  
    S4w/ kml3  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ZAE;$pkP  
    •单击Go！ }1V&(#H2  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Nu'rn*Y_  
    o&]qjFo\m  
    _D~a4tgS  
    rfjQx]3pB  
    场追迹仿真 (k?OYz]c  
    VI?[8@*Z  
    xk/(| f{L  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 h>wU';5#f  
    •单击Go！     ]arP6 iN+  
    :|a[6Uwl\V  
    :O7J9K|  
    am}zOr\  
    场追迹结果（摄像机探测器） g=)@yZ3>v  
     5M*p1^ >  
    ;>~iCF k]?  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 mWh:,[o  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 oW6.c]Vo  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 *4ID$BmO  
    4T:ZEvdzf  
    du !.j  
     <XNLeJdY  
    场追迹结果（电磁场探测器） W;=ZQ5Lw  
    (~jOtUyT  
    Z1Wra-g  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     d^7<l_u~ !  
    N$ ?qAek  
    1W U-gQki!  
    文件信息 ?^dyQhb  
    >(3 y(1;  
     e*tOXXY1  
    v[m>;Ubg&  
     VD4(  
    QQ：2987619807 e.N#+  
     
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