亚克是日语ヤケ的音译，是变色的意思，光学工厂把这个疵病认为是印子，疵病代号206。我找到了一篇文章，对此解释的比较全，推荐如下：
镜片常见不良及解决思路
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X ヤケ（腐蚀、发霉、压克）
]/y& 5X 定义： 镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是ヤケ还是脏污，才能找出真因。
hiN6]jL|O 前言： 光学玻璃的结构:以硅酸盐为主（SiO3 ）加上 Mg(镁) Ba（钡 ） K（钾） La （钄） Pb（ 铅）等几十种离子混合而成。而Mg(镁) Ba（钡 ） K（钾） La （钄） Pb（铅）等是活性金属离子，它们是用来调节镜片的折射率（nd）、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合地分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化（形成硅酸溶胶）。
TXlxnB ヤケ定义： ヤケ即腐蚀、发霉，指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层，从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。ヤケ大致可以分为膜上ヤケ和膜下ヤケ。下列为常见的几种现象：
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Zg@N MT
t6)w R 几种相关名词：
c%+9uu3 1镀前ヤケ（镜片表面本身污染/水分残留/溶剂残留，镀前已可见）
B3V=;zn 3 Ø 镜片在研磨过程中研磨液（研磨液通常PH值6.5~7.5但在加工过程会发生，由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应，造成PH值变化）对镜片的腐蚀，镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹；
[|\JIr=of5 Ø 镀前透过光检查为白色雾状；
% kg%ttu7 Ø 研磨完品未及时进行清洗（或擦拭），研磨残留（研磨液或水）对镜片的腐蚀；
XNU[\I Ø 清洗后镜片暴露空气接触水分等太长，镜片受腐蚀；
u!X$M?D4 Ø 洗净烘干时水分残留；
hl[!4#b]K Ø 擦拭时后的溶剂残留；。
HZ1e~IIw 2、 镀膜色差：（非ヤケ，镀前不可见）
P*# H]Pv Ø 因镜片放置在镀膜伞的不同位置，基底温度不均匀；造成镀膜伞上、中、下膜色差异； Ø 镀膜蒸发源偏离原有设定位置，造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀；
3PEv.h Gx Ø 镀膜使用离子源时，离子覆盖的范围没有调整合适，离子流密度不均匀造成；
[8VB"{{& 3、 膜层脏污：（非ヤケ，镀前不可见）
d2x|PpmH Ø 膜下脏，指镀前未处理干净，镀膜后形成明显的膜色差异，透过光可见。
n~#%>C7 Ø 膜上脏，包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污；镀膜真空室长期未清洁（洁净度差），膜层致密度低，灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭；镀膜后膜层污染，经高温环境后形成膜层脏污；
l(T CF Ø 因镜片表面研磨表面Ra（粗糙度）大，镀膜前擦拭可感觉有涩感；镀膜后擦拭表面形成雾状，经超声波洗净后OK；
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NNyz$ 4、 膜下ヤケ：
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]z Ø 白ヤケ：镀后在透过光下能见白色雾状层，为镀前产生；镜片表面残留物（研磨保护漆）在真空室经高温烘烤分解，在表面形成白雾层，可用溶剂擦拭去除；镀前不可见；
* \Y \$w Ø 镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后，与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀；镀前不可见；
76\ir<1up Ø 色ヤケ：研磨后不明显，镀膜放置后加重；镀前不可见
\I@=EF- & Ø 色斑： 研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底，涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕；
Ua^'KRSO 5、 膜色ヤケ：
Ew=8"V`C Ø 由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差，镀后吸收水份与O2离子，擦拭无明显变化，烘烤或放置一段时间后会变严重或消失；
:/BU-SFK^ 可通过测试高温与低温时分光曲线的变化（差异小于20nm）显现
*:q3<\y{ NY'sZTM& 5_ @8g+~ Ø 膜层结晶时高温下受损（某一层膜厚太薄≤160A），膜料与基底发生反应，高温下再结晶时不均匀，形成局部分光特性变化；
-$E_L :M Ø 研磨在表面形成不同的折射率区域；
.O{2]e$ Ø 镀膜真空室内油污严重，存在大量各类杂质气体，加热后吸附在镜片表面，造成膜层结晶粗糙，膜层在大气中吸附各类气体水分，形成局部分光特性变化，可通过测试高温与低温时分光曲线的变化（差异小于20nm）显现；
<|M cE Ø 已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净，又放入高温环境下烘烤；
HXT Bxh 6、 雾状：（非ヤケ）
);wSay>%( Ø 表面粗糙、半透明，主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀；
$T\z Ø 镜片长期被酸碱强烈腐蚀
DHO6&8S 7、 黑ヤケ
gc 14 % Ø 镀膜膜料金属氧化物失O2造成（与O2反应不充分，特别是在使用离子源的时候），镜片置于白色背景可见底色；置于富氧环境中高温烘烤后，黑色斑点消失；
4ey m$UWw Ø 多片研磨使用粘贴胶，没有彻底去除，
bUf2 uWy7 Ø 研磨液没有及时去除，镜片表面长期没有得到良好保护，点状腐蚀严重；
W27EU/+3 8、 细伤痕：（非ヤケ）
*v[WJ"8@ Ø 研磨完品表面细（浅）、长、密的伤痕，主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸（粉）选择与配比不恰当，超洗加重潜伤等；
b8QA>]6A Ø 镜片表面研磨加工时由于研磨液（浓度、PH值、颗粒、温度）等影响，镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面，但超声波洗净后使潜在伤痕显现，同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀；
0sv#* &0= 9、 水纹印ヤケ
4|uh&4"*@W Ø 洗净烘干时IPA纯度下降，（或其他烘干剂烘干效果不好）水份未及时蒸干；
X ?/C9 Ø 洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底，表面残留较多；
G}d-L!YbE' Ø 镜片表面水分与残留雾在真空室内，经高温解析后形成H＋/OH-，在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀
zo-hH8J: ヤケ关联图
92F (Sl fPf8hz> )z/+!y 通常处理思路：
njveZav 一. 目前所有对策都是加快流程，杜绝人为造成镜片表面的污染（手指痕、口水痕、其他污物）；降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间；提高膜层致密度；
-aDGXQM{~ 1、 镀前ヤケ：
_uuxTNN0x* Ø 检查方法：
ugEh}3 2 反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印；
$9D V } 2 强光灯下确认有无脏污/白ヤケ；
LMf_wsp 2 日光灯反光确认镜片有无黑ヤケ；
\`\& G-\ 2、 镀膜色差
`Nn=6[] Ø 对策/处理： 2 镀膜均匀度调整（镀膜专业人员）
NDW6UFd>1 2.1.膜色ヤケ
6fhH)]0 Ø 对策: 2 砂挂条件变更（钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等）à 确保砂挂完品表面粗糙度）； 2 研磨条件变更（加工时间、研磨纸、研磨液（PH、浓度、颗粒度）、温度、压力条件等）à 确保研磨完品表面粗糙度）； 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分，保持表面的洁净度（注意清洁方法与清洁辅料与更换周期）； 2 镀前处理：使用手工表面返修（单轴机手工返修） Ø 试验/验证： 2 通过反射光下“哈汽法”，镀前检查确认表面光洁度； 2 使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹； 2 通过镀前处理（手工返修）后镀制来验证研磨完品表面质量；
V,<3uQD9a 3、 膜层脏污：
%e2,p&0G A、膜上脏污：
7t7"glP Ø 对策/处理：
5w)tsGX\ 2 膜系调整（如加镀SiO2，膜表面品质提升）；
GndU}[ 0J 2 镀后延长烘烤时间，与镀膜使用离子源辅助镀膜（表面致密度提升）；
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l 2 镀后防尘措施（改善存放环境，降低泄大气前镜片温度，保持真空室内洁净度）；
gwDQ @ 2 防止镀膜后加工工序形成表面污染，如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染，造成表面脏污；
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ke& 2 试验/验证：
eXY*l>B 2 擦拭变化，可擦拭与超声波清洗去除；
w yP|#Z\ B、膜下脏污：
+jePp_3$O Ø 对策/处理：---- 镀前处理
NGIbUH1[ 2 洗净处理（确认洗剂浓度与PH值，提高超声波强度，延长洗净时间，特殊洗净工艺）；
yrOWC 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分，保持表面的洁净度（注意清洁方法与清洁辅料与更换周期）； 2 研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除；
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O! 2 手工返修处理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）；
CM+Nm(|\, Ø 试验/验证：
VMPBM:k G 2 镀前反射光下“哈汽法”确认，
FS7 _ldD 2 镀后不可擦拭
LeDty_ 4、 膜下ヤケ：
W 86`R Ø 对策/处理：---- 镀前处理
~R d,jfx 2 研磨条件变更（考虑材质对研磨液等调整）
pj:s+7"t 2 考虑材质调整研磨工艺：
4}@J]_]Z n 采取研磨后直接镀膜工艺：
kLa9'c 0 芯取à研磨à手工擦拭、检查à镀膜；
{ O+d7,C n 采取易ヤケ面后加工工艺（避免多片加工、采取单元一个流作业等）；
yOwo(+
2 n 缩短研磨后到镀膜的时间（检查前置、免洗净）；
W($}G_j[B1 n 研磨完品清擦（吸水棉布，擦拭后达可镀清洁度），二次清擦法，及时更换擦布；
5+*MqO> n 已擦拭好研磨完品防潮、防湿（研磨后立即泡IPA，卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等）；
;i*<HNQ n 先镀易ヤケ面
h.PVR Awk 2 洗净处理（考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整，如洗净液、镜片放置方向等）
b^[Ab:`}[V 2 手工处理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）
e&WlJ Ø 试验/验证：
oc+TsVt 2 通过手工处理确认镀后品质
U.]5UP:a 2 镀前强光灯下可见、哈气法检查
Y ;$wD9W 5、 膜色ヤケ：
LT7C>b Ø 对策/处理：
0$)uOUVJ 2 镀膜工艺改进（膜层致密度提高（蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度））；
7e[3Pu_/X 2 使用高能离子去除表面残留污染，例如：使用SHINCRON SID－1100镀膜；
LpwjP4vWJ 2 镀前、镀后烘烤时间加长 2 镀后完品防尘、防湿 Ø 试验/验证： 2 一般擦拭不变化（研磨粉、CaCO3擦拭变化，膜层破坏）
[=k$Q
(.3 2 放置变化（变重/消失）
{cmY`to 6、 雾状：
UnSi= uj Ø 对策/处理：
"M#A `b 2 砂挂加工条件改善（钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等）
{j$ :9 H à 确保砂挂完品表面粗糙度）；
t5:
1' N9P 2 研磨条件变更（加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等）
hKVj\88 à 确保研磨完品表面粗糙度）；
\)KLm 2 研磨完后追加黑毛纸抛光；
~6YTm6o 2 洗净条件改善（洗剂、时间、温度等）；
kr ,&aP<, 2 镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压（160V～120V）调整，与离子电流密度增加，离子源反应气体流量适当增加；
!C13E lf 2 膜层致密度提高；
e
]-fb{oVH Ø 试验/验证：
H_w&_h& 2 对不同粗糙度的砂挂完品试验，确认砂挂外观对研磨完品的影响程度
SU>2MT^ 2 通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度
+9LIpU&5 7、 黑ヤケ
\ZN> 7?Vs Ø 反射光检查
.nDB{@# Ø 对策
jSi\ /( E 2 镀膜时O2的增加
Rq`B'G9|c 2 研磨液残留及时去除，表面脏污及时清理
mhh^kwW 8、 ：细伤痕
{}gx;v) Ø 同雾状
% gBulvg 9、 水纹ヤケ
kA c8[Hn Ø 更换烘干剂
u={A4A# 以上
