【官方培训】2018年 Zemax成像与高级成像培训_11月上海站

发布:zemax官方 2018-09-11 16:24 阅读:5673
Zemax成像设计培训课程 & 高级成像设计培训课程     ,>TDxI;  
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Zemax中国将于 2018 年 11 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加!   Nk F2'Z{$+  
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主办:Zemax China       ^*~4[?]S  
时间:成像设计:2018年11月26~28日     |     高级成像设计:2018年11月29~30日       dGR #l)  
地点:上海   1gYvp9Ma  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师    |FFM Q"  
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课程安排: Y[;Z7p  
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成像设计 A2fuNV_  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 'w\Gd7E  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍;   b&pL}o?/k  
材料库、镜头库介绍;   #N\<(SD/  
如何定义新材料;   ]}_Ohe]X  
如何使用镜头库;
MTF;   =VZ0+Yl  
双高斯镜头设计及优化;   xT+@0?|F  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用;   ).$kp2IN  
寻找最佳非球面;   cW^u4%f't'  
曲率套样板;   >LEp EMJ\  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍;   N$8"X-na?  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换;   6b4]dvl_  
坐标断点面的使用技巧;   r`:dUCFE  
序列模式棱镜建模;   M:K4o%  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能;   M;@/697G  
加工误差、装配误差;   Mg u=cm )  
灵敏度分析;   .ldBl  
反灵敏度分析;   r9^~I  
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化;   `SYq/6$VEH  
局部优化;   Yp9%u9tNq  
全局优化;   DEKO] i  
锤形优化;   O'W[/\A56M  
优化函数架构技巧;   8PW3x-+  
透镜优化实例;   =,W~^<\"  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例;   Y2y = P  
投影系统设计;   TJ(vq]|&  
集光系统设计;
公差评价标准;   l`AA<Rj*O-  
公差操作数;   B+=Xb;p8  
补偿变量的使用;   t-J\j"~%+  
单透镜公差分析;   5' 3H$%dC  
库克镜头公差分析;   4= hz4(5a  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   TbhsOf!  
实例设计及分析;   1Q??R }  
小结及答疑;
暗盒系统介绍;   jR,3 -JQ  
小结及答疑;
公差脚本的使用;   j|(bdTZY:  
镜头出图、CAD出图;   0kld77tn 2  
小结及答疑
高级成像设计 VK$s+"  
在初阶成像课的基础上,用2天时间深入介绍OpticStudio成像系统分析优化逻辑,通过实例介绍非球面、自由曲面的设计,并介绍高级公差分析技巧。该课程需要学员熟悉成像光学原理、熟悉OpticStudio序列模式操作,包括模型建立、优化、坐标间断、公差等。 ^g N?Io  
上课时间第1天第2天
9:00-10:30光学设计流程总览; CLY>M`%?+p  
案例:扩束镜设计;
衍射算法与像质评价; 3=kw{r[2lM  
光偏振与膜层;
10:30-10:45茶歇 !X/O1PM|  
茶歇 n'Z5rXg  
10:45-12:00评价函数与优化向导; ( ESmP  
全局优化; 14rX:z  
选取解并精细优化;
可制造性与公差分析; 17;qJ_T)  
案例:双胶合透镜公差及去敏感化; gS ^Y?  
非球面制造与公差;
12:00-13:30午餐午餐
13:30-15:00衍射光学设计:热补偿镜头; a/p /<  
坐标间断:离轴抛物面反射镜设计;
案例:离轴抛物面反射镜公差分析; J k FZd  
群组公差方法;
15:00-15:15茶歇茶歇
15:15-17:00Q型非球面; x?-kt.M  
非球面定义转化; si>gYO  
案例:Chebyshev面离轴三反设计; V%!my[b  
【自学】案例:自由曲面成像棱镜;
案例:Maksutov望远镜公差分析;
CKRnkTTiV  
WzO[-csy  
特色:     [5jXYqD=vj  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;       *6 P)HU@  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;       *Mr'/qp,  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;       }VXZM7@u  
3!KEk?I]  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     高级成像设计:3980元/人       r#' E;Yx  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;       }h`ddo  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。       \dc*!Es  
^Dw18gqr=@  
报名方式:       _8nT$!\\  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。       E,:E u<  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。     u}IQ)Ma  
i?pC[Ao-_  
Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
     e't1.%w  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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