【官方培训】2018年 Zemax成像设计及照明设计与杂散光分析培训_09月上海站

发布:zemax官方 2018-07-30 17:16 阅读:7364
Zemax成像设计培训课程 & 照明设计与杂散光分析培训课程   ;50&s .gZ  
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Zemax中国将于 2018 年 9 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! .nrllVG%`  
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主办:Zemax China     LO{Axf%  
时间:成像设计:2018年09月12~14日     |     照明设计与杂散光分析:2018年09月17~19日     7:<w)Al!  
地点:上海 q iOJ:'@  
讲师:Heng Li ——
Zemax 亚太区工程经理;Julia Zhang —— Zemax 光学工程师   }Rw,4  
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课程安排: -<6?ISF2  
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成像设计 R03 Te gwA  
本课程为3 天中高阶成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。 \4>,L_O  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 软件功能介绍; qy3@> 1G  
材料库、镜头库介绍; *$<W"@%^J  
如何定义新材料; 'V]&X.=zC  
如何使用镜头库;
MTF; rR#Ditn^  
双高斯镜头设计及优化; A<X?1$  
像质评价与图像模拟;
分析工具应用; 9dhEQ=K{3  
寻找最佳非球面; lQ;BI~  
曲率套样板; $QC1l@[sM  
镜头匹配工具;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理论介绍; ~_D.&-xUF  
Zemax 像差分析图谱;
坐标变换; 3O/#^~\'hW  
坐标断点面的使用技巧; 7pyzPc#_  
序列模式棱镜建模; 3OZPy|".ax  
扫描反射镜设计实例;
Zemax公差分析功能; !,m  
加工误差、装配误差; :dSda,!z  
灵敏度分析; P"Al*{:J  
反灵敏度分析; sF{aG6u   
蒙特卡罗分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00优化; jb.H[n,\  
局部优化; /D&&7;jJ  
全局优化; sCFxn  
锤形优化; r0XEB,}  
优化函数架构技巧; U-I,Q+[C[^  
透镜优化实例; e|\xF V=4  
双胶合优化实例;
科勒照明综合设计实例; 3#>W\_FY*D  
投影系统设计; -r={P _E6  
集光系统设计;
公差评价标准; Jay"  
公差操作数; !@=S,Vc.  
补偿变量的使用; vQljxRtW  
单透镜公差分析; ?;ok9Y  
库克镜头公差分析; T- en|.  
分析报告查看说明;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00热分析及衍射光学元件的使用;   Qn!mS[l  
实例设计及分析; lT|Gkm<G  
小结及答疑;
暗盒系统介绍; c1yRy|  
小结及答疑;
公差脚本的使用; J-v1"7[2GC  
镜头出图、CAD出图; $a M5jH<  
小结及答疑
照明设计与杂散光分析 6Wu*zY_+  
这是一门基于OpticStudio非序列模式的3天课程,将系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、优化方法、杂散光分析、荧光散射等主题。 JLoF!MK}  
上课时间第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio非序列光线追迹; y7,I10:D  
光源与探测器;
案例:背光模组; M ^o_='\bE  
复杂几何模型的建立;
转化序列模式为非序列; 8:,($a/KF  
杂散光分析入门;
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00光度学、照度学理论基础;CAD导入与导出; q>$MqKWM  
光偏振与膜层;
表面散射; @8|*Ndx2  
案例:Maksutov望远镜杂散光分析;
12:00-13:30午餐午餐午餐
13:30-15:00光源模型; @NLcO}  
光谱模型; r)*23&Ojs  
真彩色数据探测;
物体表面属性; bhqSqU}6~  
光线分裂;
非序列模式鬼像分析; 1RRE{]2v#  
散射指向性与重点采样;
15:00-15:15茶歇茶歇茶歇
15:15-17:00优化:反射抛物面;   AW]\n;f  
优化:位图文件优化;
非序列系统设置; @+gr/Pul^  
非序列系统错误排查;
体散射; EwC]%BZP  
荧光模型
!T{+s T  
7D6`1 &  
特色:     vMTf^V  
Ÿ  互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习;     4&}%GH>}  
Ÿ  原厂正版全新教材,提供使用最新版软件最高版本;     pU$k{^'UK  
Ÿ  颁发Zemax原厂培训证书;     \}Jznzx;  
EeW ,-I  
培训费用(RMB):成像设计:5980元/人     |     照明设计与杂散光分析:5980元/人     ,;$OaJFT  
Ÿ  费用均含原厂正版教材、发票;     0q}i5%m7  
Ÿ  开具6%的增值税发票,开票名称:Zemax技术服务费。     lPy|>&Yc  
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报名方式:     XO+BZB`F  
Ÿ  发送 报名Zemax官方培训+姓名、电话、公司名 邮件至:china@zemax.com;我们收到邮件后会立即联系您。     x4MmBVqp  
Ÿ  或 拨打 Zemax热线:021-6271 3200  索要报名表以及培训具体信息。   bA^uzE  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
   5,"c1[`-  
       Zemax销售支持热线:+86 21 6271-3200            
Zemax技术支持热线:+86 21 6271-3255
中文支持邮箱:china@zemax.com
地址:上海市南京西路1539号静安嘉里中心办公楼二座2905室
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