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光学薄膜设计,工艺与设备
主题:
离子源前处理时间问题
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1楼
:和离子源能量强度有关,哪怕同一个离子源,新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的 ..
[
ouyuu
2024-05-17 08:57]
2楼
:一般来说轰击15分钟左右就够,但是还是在进炉前清洗工作一定要仔细,离子源主要为了辅助沉积。
[
zhangsui666
2024-05-17 17:48]
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