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主题:上海光机所在飞秒激光抛光反应烧结碳化硅研究中取得新进展
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8楼:能够实现快速的将表面粗糙度从35nm左右降至约11nm
7楼:飞秒激光抛光反应烧结碳化硅
6楼:飞秒激光抛光反应烧结碳化硅
5楼:上海光机所在飞秒激光抛光反应烧结碳化硅研究中取得新进展
4楼:飞秒激光抛光
3楼:很厉害
2楼:很有意义
1楼:好厉害

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