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主题:北京理工在全息光刻微纳制造领域取得重要进展
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11楼:该传感器在稳定性方面表现出色,即使在上百次弯曲、拉伸和液体浸泡等条件下,线宽变化小于3.6 nm ..
12楼:研究团队研究了免刻蚀的工艺方法,采用全息光刻与倾斜蒸镀金属薄膜两个步骤制作了金属线栅偏振片 ..

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