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上海光机所在飞秒激光抛光反应烧结碳化硅研究中取得新进展
回帖:研究人员提出了一种飞秒激光选择性抛光技术,基于RB-SiC中Si和SiC相的烧蚀阈值不同,实现选择性去除表面凸起的 Si 毛刺来降低粗糙度。研究通过双温模型和实验拟合计算,得到了SiC和Si的飞秒激光多脉冲烧蚀阈值。在两相烧蚀阈值之间进行飞秒激光抛光工艺优化后,对不同扫描次数下的表面形貌和粗糙度进行了分析。通过参数优化,能够实现快速的将表面粗糙度从35nm左右降至约11nm,相比传统的抛光手段极大的提高了抛光效率。这种选择性抛光技术还可以用于指导其他复相材料以及阶梯材料的飞秒激光加工。
jeremiahchou
回帖于2022-07-01 18:04
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