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主题:
上海光机所在飞秒激光抛光反应烧结碳化硅研究中取得新进展
回帖:能够实现快速的将表面粗糙度从35nm左右降至约11nm
光电青年
回帖于2022-07-01 08:53
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:好厉害
(
悠悠白云
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:飞秒激光抛光反应烧结碳化硅
(
杨森
)
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