回帖：该技术解决了7纳米及以下先进制程中光刻胶显影环节的工艺优化难题，显著降低了芯片制造缺陷率。此前工业界依赖反复试错优化工艺，而该技术通过分子尺度解析实现精准调控，为半导体湿法工艺提供了全新解决方案。