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北京理工在全息光刻微纳制造领域取得重要进展
回帖:研究团队研究了免刻蚀的工艺方法,采用全息光刻与倾斜蒸镀金属薄膜两个步骤制作了金属线栅偏振片,不仅降低了红外金属线栅偏振片的制作难度和制作成本,而且实现了较高的金属栅层,大幅提升了消光比。最终制作的金属线栅偏振片在1 2.5 μm的平均消光比达到40 dB
jeremiahchou
回帖于2025-06-02 19:25
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:该传感器在稳定性方面表现出色,即使在上百次弯曲、拉伸和液体浸泡等条件下,线宽变化小于3.6 nm ..
(
ning_1
)
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