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北京理工在全息光刻微纳制造领域取得重要进展
回帖:该传感器在稳定性方面表现出色,即使在上百次弯曲、拉伸和液体浸泡等条件下,线宽变化小于3.6 nm,灵敏度波动小于1.3%
ning_1
回帖于2025-06-02 16:16
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:研究团队研究了免刻蚀的工艺方法,采用全息光刻与倾斜蒸镀金属薄膜两个步骤制作了金属线栅偏振片 ..
(
jeremiahchou
)
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:该系列研究成果为微纳光栅的规模化生产与应用提供了新的解决方案。通过降低制作成本并简化工艺, ..
(
yedos
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