主题：整理英特尔14nm光刻技术简报，光刻物镜专利。
hhxxgg00发表于 2014-08-15 09:38
附件是一些英特尔近年来让摩尔定律得以延续关键技术：三栅极3d晶体管技术和14nm光刻。同时献上三篇蔡司光刻镜头专利，该专利和英特尔14nm技术的关联性极小，从搜集情报来看英特尔所采购的光刻系统很有可能应用尼康的光刻物镜。国内光刻设备和光刻工艺和国际水准有巨大落差。工艺方面台积电（TW）年内有可能实现18nm-16nm工艺！中芯国际有可能实现28nm工艺，由高通提供相关帮助。
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英特尔可能应用的离轴光刻系统.rar
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英特尔14nm技术.rar
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三栅技术.rar
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CN201210286762-用于微光刻的投射...-申请公开.rar
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CN200980110023-用于微光刻的投射...-申请公开.rar
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CN200680028253-微光刻投影物镜-申请公开.rar
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