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主题:TRCX:掺杂过程分析
infotek发表于 2026-07-13 15:42
在 LTPS 制造过程中,使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时,应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容,并分析有源层离子注入前后的电位分布,如下图所示。
(a)FIB
(b) 掺杂前后对比
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