本文介绍了如何在Ansys Zemax OpticStudio中使用鬼像分析工具对透镜系统进行杂散光分析。由透镜表面非预期光线反射所产生的鬼像反射，会在成像系统中形成伪影或导致对比度下降。这类影响在高功率激光系统中尤为显著，集中的反射光可能会造成光学元件损伤。对鬼像反射进行合理分析，对于减少杂散光、提升光学系统整体性能至关重要。本文阐述了如何利用鬼像分析模拟与分析单次及二次反射鬼像，并为解读分析结果、实现高效系统设计提供指导。