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光学薄膜设计,工艺与设备
主题:
磁控溅射基片前清洁
liang231929
发表于 2026-07-07 15:11
也称前期反溅,顺序:抽本底真空--冲氩气--闭靶挡板--关靶电源--开基板偏压(基板反溅)--关闭偏压--开挡板--开启靶进行沉积镀膜
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