《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 ]8}2  
+Eb-|dM  
) q'D9x9  
"4WnDd5"  
U}X'
RCM  
第1章光刻工艺概述 %Bm{ctf#)  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 "zNS6I?rzE  
1.2光刻技术的发展史_3 0$`pYW]  
1.3投影光刻机的空间成像_5 lU Zj  
1.4光刻胶工艺_10 VFZyWX@#u  
1.5光刻工艺特性_12 ~b#<
HG\,,  
1.6小结_18 0B9FPpx?:  
参考文献_18 Jgr;'U$  
}*9F`=%F  
第2章投影光刻的成像原理 jbe:"Stw  
2.1投影光刻机_20 um$U3'0e  
2.2成像理论_21 1t/c@YUTy  
2.2.1傅里叶光学描述_21 V+1
c<LwT  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 $~:ZzZO  
2.2.3其他成像仿真方法_30 @Yb8CB  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 WL
U_t65  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 "dv\ 9O  
2.3.2影响_36 7^rT-f07  
2.4小结_39 sV5k@1Y  
参考文献_39 KQ9w>!N[  
:tFcPc'  
第3章光刻胶 ,V]FAIJ  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 \NDW@!X  
3.1.1光刻胶的分类_42 7lF;(l^Z>}  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 Kk=>"?&  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 7\$}|b[9  
3.1.4现象学模型_48 /KnIU|;  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 _G-6G=q  
3.2.1技术方面_50 ;9)nG,P3  
3.2.2曝光_51 &,p6lbP  
3.2.3曝光后烘焙_54 3C=QWw?  
3.2.4化学显影_58 pK{G2]OK{U  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 0hkYexX73  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 ?\4kV*/Cqz  
3.5小结_68 zBTxM
 
参考文献_69 !}P^O(oY  
MTE1\,  
第4章光学分辨率增强技术 R=R]0  
4.1离轴照明_74 A6_ER&9$>N  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 h8.(Q`tli  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 U%1M?vT/  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 UjunIKX+  
4.2光学邻近效应校正_81 ~a7@O^q4  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 QrSO%Rm1*  
4.2.2线端缩短补偿_84 jZ5ac=D&I  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 G~&q  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 c3fi<?0&|  
4.3相移掩模_89 \C;Yn6PK0  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 H 9/m6F  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 T[[E)f1[  
4.4光瞳滤波_100 i/8OC  
4.5光源掩模协同优化_102 >3p8o@:  
4.6多重曝光技术_106 Zg= {  
4.7小结_109 HWou&<EK  
参考文献_110 P%[{
'u  
;/23CFYM  
第5章材料驱动的分辨率增强 IwbV+mWQ  
5.1分辨率极限的回顾_115 k?3mFWc  
5.2非线性双重曝光_119 th"Aatmp  
5.2.1双光子吸收材料_119 5A %TpJ  
5.2.2光阈值材料_120 @Py'SH!-  
5.2.3可逆对比增强材料_121 bTYR=^9  
5.3双重和多重成形技术_124 _q-k1$o
$  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 %dmQmO,  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 S[8nGH#m  
5.3.3自对准双重成形_126 0 >(hiTy<  
5.3.4双色调显影_127 xw~oR|`U  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 Ttb?x<)+8  
5.4定向自组装_129 ~:C`e4  
5.5薄膜成像技术_133 i-95>ff
  
5.6小结_135 6]!Jo)BF  
参考文献_135 y(
C',Xn  
8-L -W[  
第6章极紫外光刻 (S=CxK  
6.1EUV光源_141 b83m'`vRM  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 rP(;^8l"  
6.3EUV掩模_146 JGhK8E  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 s/;S2l$`  
6.5EUV光刻胶_156 (LVzE_`  
6.6EUV掩模缺陷_157 X*)DpbWd  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 n?^oQX}.\  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 0eA|Uq~  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 ZS&+<kGD  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 7}mrC@[i  
6.8小结_167 D#>d+X$  
参考文献_168 (r.y   
&$pQ Jf  
第7章投影成像以外的光刻技术 /5>A 2y  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 &]KA%Db2  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 8X\":l:  
7.1.2技术实现_179 R C!~eJG!  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 7Sycy#D  
7.2无掩模光刻_186 IS{>(XT{  
7.2.1干涉光刻_186 u3 4.   
7.2.2激光直写光刻_189 6D4u?P,  
7.3无衍射限制的光刻_194 Lp{u
A4:=K  
7.3.1近场光刻_195 1R.6Xer  
7.3.2利用光学非线性_198 9PR?'X;4  
7.4三维光刻_203 )RT:u)N  
7.4.1灰度光刻_203 PC?XE8o  
7.4.2三维干涉光刻_205 A22'qgKm@  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 B1U7z1<  
7.5浅谈无光刻印_209 @7?L+.r$9  
7.6小结_210 `qy@Qo  
参考文献_211 =^ x1:Ak  
7x$VH5jie#  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 hus9Zv4  
8.1实际投影系统中的波像差_220 s%zdP  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 lxLEYDGFS  
8.1.2波前倾斜_226 {%Q+Pzl.  
8.1.3离焦像差_226 Cj6$W
5I m  
8.1.4像散_228 2B=BRVtSs  
8.1.5彗差_229 5q}7#{A  
8.1.6球差_231 Ch&2{ng  
8.1.7三叶像差_233 $)jf  
8.1.8泽尼克像差小结_233 q+9c81b  
8.2杂散光_234 $r(9'm}W  
8.2.1恒定杂散光模型_235 7}fT7tsN  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 S1*xM  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 u5
P2*  
8.3.1掩模偏振效应_240 K@!Gs'Op  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 !ac,qj7spa  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 KA9v?_@{F  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 KN\tRE  
8.3.5偏振照明_248 p}a0z?  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 zW; sr.  
8.5小结_250 NMH'4R  
参考文献_251 &>Nw>V  
V.kf
@  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 yT C+5_7  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 K!|J/W  
9.1.1时域有限差分法_257 TDW\
n  
9.1.2波导法_260 `mDCX  
9.2掩模形貌效应_262 s>e)\9c  
9.2.1掩模衍射分析_263 3TnrPO1E  
9.2.2斜入射效应_266 ks(BS k4  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 {} Zqaf  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 y-a
3  
9.2.5各种三维掩模模型_277 .arWbTR)~U  
9.3晶圆形貌效应_279 Sk%*Zo{|  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 Uizg.<.  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 43BqNQ0  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 I73=PfS:m  
9.4小结_283 t|}}#Z!I[f  
参考文献_283 6fw2;$x"  
@`:z$52  
第10章先进光刻中的随机效应 JR4fJG  
10.1随机变量和过程_288 o#=
O5@>ai  
10.2现象_291 6{?B`gm7g  
10.3建模方法_294 mW 'sdb  
10.4依存性及其影响_297 LZ1)zoJ  
10.5小结_299 '"]U+aIg  
参考文献_299 Xny{8Oo<1?  
专业词汇中英文对照表 7E\k97#G  
tE;c>=>t