线上培训 | 第11期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在09月26日-30日推出第十一期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容，以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍： "42u0rH0J  
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培训大纲： BzH7E[R49  
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杂散光术语 D@H'8C\  
辐射度学基础 gDnG!i+  
杂散光成因 zx{\SU  
杂散光影响、杂散光控制 Ov%9S/d  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 r2QC$V:0  
ASAP 杂散光分析流程、步骤：关键表面和照明表明 iXC/? EK4  
散光特性、散射模型 ~I/7{B|yX  
消光漆/表面处理 />\.zuAr&  
光学表面污染 ^~MHxF5d  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 *cTN5S>  
衍射杂散光、 cZL"e  
PST 分析：衍射元件的杂散光分析 UR-e'Z&]  
小孔衍射的杂散光分析 Uk ?V7?&  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 c#9 zw[y-L  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 J#@"Yb  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 OR&+`P"-\  
散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱 txr!3-Ne'!  
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培训书籍 F>A-+]X3o  

图片:ASAP640.png

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报名培训即可免费赠送此书 k1-?2kf"{  
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培训详情： {br4B7b  
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本培训为线上直播培训培训内容作业练习跟踪， 0]>p|m9K^<  
老师答疑培训结束后支持录播回放观看（限期30天） (a7IxW  
培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用） &B3\;|\  
为保证课程质量，课程均采用小班授课模式 C UBcU  
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举办单位：武汉墨光科技有限公司 -ZihEyG?V  
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培训日期：9月26-30日  14:00-17:00 i-E&Y*\^9H  
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培训费用：2980元/人（9月16日前报名享八五折优惠） >b*P
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报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。 R4V>_\D/  

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注：如报名人数未达到最低开课人数，武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。