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光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ZzI^*Nyg v>g1\yIw QA.B.U7! (H+'sf^h 任务说明 n <lU; m
|,ocz Z|d_G} D}!U?]la& 简要介绍衍射效率与偏振理论 e?L$RY,7 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 h=4m2m 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 3Du&KZ nI.#A 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 r7*[k[^[^ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: RGLwtN Y*f7& '[ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为。 fUb5KCZ GG;M/}E9 光栅结构参数 ~AK!_EOs` 研究了一种矩形光栅结构。 QsDab4 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 fQuphMOl6 根据上述参数选择以下光栅参数: >6ch[W5k@ 光栅周期:250 nm %<DRrKt 填充因子:0.5 V}9wx%v 光栅高度:200 nm m98k/w_ 材料n_1:熔融石英(来自目录) m^T$H_*; 材料n_2:二氧化钛(来自目录) &.7\{q\( $z@e19g T 9z_Gf]J~ uVu`TgbZ 偏振态分析 [Bpgb57En 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 sTv/;* 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 ,[Cl 'B 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 2HQ'iEu$ <ze'o.c g:;v] = "c
_<?=[ 模拟光栅的偏振态 2E2J=Do tk}qvW.Ii 348Bu7': 5/P?@`/eT 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: ~Zaxn~u:
在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,。这说明衍射光是完全偏振的。 ^5,ASU 对于𝜑=22°,。此时,67%的光是TM偏振的。 W11_MTIU 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 R"O9~s6N m(g$T Passilly等人更深入的光栅案例。 7Zu!s]t Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 zG&
N5t96X 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 =/dW5qy;*+ >t*zY~R. L1rov 6Mk@,\1 光栅结构参数 >r]# 77d 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 um3
M4>K 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 Uut,cQ". d 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 &nz1[, 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 N.-Ryj&9 te:"1:e Tm3$|+}$f 光栅#1——参数 7ky(g' 假设侧壁倾斜为线性。 *^.b}K% 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 E>'pMw 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 &LL81u6=S 光栅周期:250 nm *ZaK+ B 光栅高度:660 nm 3tLh{S?uJ 填充因子:0.75(底部) t1ZZru'r 侧壁角度:±6° AQ0L9? n_1:1.46 4-3B" n_2:2.08 bQ
.y,+ "
*Ni/p$I X^xu$d6 OH)SdSBz 光栅#1——结果 bJBx~ 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 Vn8Qsf1f 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 sgB3i`_M 1.>sG2*P #d|.BxH B:x4H}`vh 光栅#2——参数 s#qq%
@ 假设光栅为矩形。 K}Z'!+<U 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 `L;I/Hp 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 le[5a=e( 光栅周期:250 nm wk5a &
光栅高度:490 nm {H>iL 填充因子:0.5 %%k[TO n_1:1.46 ,bH n_2:2.08 )m)>k` 0 OdR =3J~Fk VUt
6[~? 光栅#2——结果 R/^ rh 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 0cS.|\ZTA 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 foJ|Q\Z,T :YV!;dKJ h2BD?y .OWIlT4K
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